クラスターテクノロジー(株)【4240】の掲示板 2016/08/09〜2016/12/04

>>122

【半導体は印刷する時代？ 日の丸復活の切り札か】《追記》（１－２）

＞＞超微細な半導体さえも新方式である
＞＞”ナノインプリント露光（ＮＩＬ）”が採用
＞＞される時代らしい。

＞此処と、何か関係があるのですか？

⇒　kn0さん、言葉足らずですみませんでした。

　　（ＮＩＬ）とクラとの関係有無は、残念ながら
　　私方も不明です。

　　今回の日経記事は、半導体も有機ＥＬのどちらも
　　これからの新技術の鍵となるのは『インクジェット』
　　であることを、示唆しているように思っています。
　　
　　ナノインプリント露光（ＮＩＬ）は、キャノンが
　　主導している、半導体産業の革命児ともいわれる
　　これからの新技術（2017年度にも実用化）です。
　
　　　⇒　詳細は、下記URLを参照下さい。
　
　　この新技術（ＮＩＬ）にも、「クラＰＩＪが既に
　　得意としている”微量の塗布量と位置の繊細な　＊＊＊
　　調整”」を実現し課題を克服したとあったため、＊＊＊
　　思わず投稿文の”枕詞”として使用した次第です。
　　（前投稿は、有機ＥＬのことが主体だったつもり）
　
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◆半導体産業の革命児：ナノインプリント（キャノン_ＨＰ）
http://web.canon.jp/technology/future/nanoimprint-lithography.html
　～
　～
《ナノインプリントの課題克服⇒インクジェット》
課題の一つが、直接、転写で回路パターンを形成する
には、”ナノ（nm）レベルでの正確な制御”が必要で、

この難問を克服したのが、『インクジェット技術』を＊＊＊
活用し、塗布量と位置の繊細な調整を実現したこと。＊＊＊
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※（２－２）へ続く。