(株)ニューフレアテクノロジー【6256】の掲示板 2017/03/10〜2017/12/26

このレポートを目にしたのが２月でＮＦＴの山田裕和さんは、新機種MBM-1000開発費を積極的に投入してマルチビーム方式のマスク描画装置を今年末には出すとMBM-1000への自信も見せています。　この時点でほぼ完成済みだったろう。

10nmから５nmへの開発に４年かかりましたが，他社のIMSの７nmを越して５nmです。
１nm、 ２nm 縮めるのには設計と試作の繰り返しは一朝一夕には出来る技術と作業ではありません。

NFTの松本裕史氏からも、MBM-1000 開発状況が報告された。
β装置を3 月末に出荷し評価を進めている事と2017 年Q4 には商品ベースの市場投入が開始されるロードマップが示された。
Logic 5nm 以下の世代への利用に向け、ショット数の増大やレジスト低感度化を背景として、シングルビーム可変成形(S-VSB)描画法では現実的な描画時間が見込めない可能性があることから、マルチビーム描画方式を採用し10bit 照射量制御を有した10nmサイズの成形アレイビームを重ね合わせて(グレービームを生成)描画する方式で、今回300Gb/s のBAA 開発の完了が報告されてます。

スループット向上に向けたデータ事前処理、補正処理、描画処理のシーケンスを並列処理する事での高速化の手法を、
タイムチャートで示した解説がされ、5nm ノードに向けた開発が着々と進んでいる事を示す発表となった。
7nm ノード以下のマスク製造に課されたデータボリュームの増大に対する課題、ILT に対する処理並びに、帯電補正等を含めた
技術が確立されている事をアピールし、マルチビーム方式によるマスク製造が現実となっている。
これで最先端の新機種MBM-1000の投入と情報通信から自動運転車の分野に欠がせぬ技術をフレアは持ち合わせていす。

業績向上は劇的に来期より鮮明になる。