(株)ニューフレアテクノロジー【6256】の掲示板 2017/12/27〜2019/01/31

ＣＳは昨年も同時期にここを格下げしている。かっての野村ストーリーのようにＣＳの仮説はいずれ破綻する。現在、信頼に足る情報として次の記事が有るので再掲する。
ニューフレアテクノロジー・杉本茂樹社長に聞く「研究費増やし微細化対応」
(日刊工業新聞2017/12/25 05:00)
ニューフレアテクノロジーが攻勢に出る。主力のフォトマスク描画装置では次世代機の開発を強化するほか、検査装置など新規事業の創出も加速する。また、同じく東芝傘下の芝浦メカトロニクスの株式を最大で３・０８％買い取ることも決めた。連携を深めて事業拡大につなげる構えだ。今後の成長戦略について、杉本茂樹社長に聞いた。
―２０１６年度は過去最高の売上高を達成しました。市場をどう見ていますか
「半導体回路の微細化スピードが鈍化する中、生産能力の拡大投資が活発化している。特に期待を寄せるのは中国市場だ。最先端ではないが、回路線幅２８ナノメートル世代をメーンとしたマスク描画装置の新規需要を見込む。１８年頃から本格的に立ち上がるとみている」
―１７年度は営業利益率が１７・９％に落ち込む見通しです
「成長に向け、研究開発費を引き上げる。鈍化したとはいえ、微細化の流れが止まるわけではない。きっちりと先端開発に対応する。１９年頃から販売が本格化すると見込むマルチビーム描画装置の次世代機にもめどを付けた。先端から普及機まで幅広く市場を押さえる。一方で開発効率を高めるべく、装置のパーツのプラットフォーム化を進める。コスト削減に加え、リードタイムや在庫を圧縮できる。１８年頃から開発現場に導入したい」
―新規事業の育成も課題です
「フォトマスク検査装置の最新機種『ＮＰＩ―８０００』を開発した。レーザー光を使っており、高速処理と１０ナノメートル世代の検出感度を実現した。炭化ケイ素（ＳｉＣ）や窒化ガリウム（ＧａＮ）のエピタキシャル成長装置も引き合いが多い。２―３年かけて新規事業の比率を２―３割に高めたい」
―自社単独で成長していくには限界があります
「他社との連携はいろいろやらなければいけない。例えばサービスの部分を全て自社で抱えるのは難しく、他社と組む選択肢もある。開発に着手している電子ビームウエハー検査装置でノウハウを持っているメーカーと組むことも考えられる。共同開発やパーツを供給し合うなど、やり方や相手はたくさんある　…　…」